چهارشنبه ۸ تير ۱۴۰۱ | Wednesday 29 June 2022
ورود کاربران | EN | نقشه سایت

ورود به حساب کاربری

نام کاربری
رمز ورود
بخاطر سپردن شما در سیستم

اخبار

طرح پژوهشی دانشجویی خاتمه‌یافته در حوزه مهندسی مواد؛

بررسی تأثیر افزودنی­ های پایه اکسید گرافن بر رفتار خوردگی پوشش ­های ایجاد شده به روش اکسیداسیون الکترولیتی پلاسمایی روی تیتانیم

merc

دانشجو: بهناز همراهی

مقطع تحصیلی:  دکتری

 استاد راهنما :  دکتر بنیامین یارمند - دکتر ابوذر مسعودی

زمینه کاربرد پروژه:  خوردگی و پزشکی

 خلاصه پروژه: هدف پژوهش مذکور بهبود خواص حفاظتی پوشش ­های اکسیداسیون الکترولیتی پلاسمایی ایجاد شده روی تیتانیم توسط ترکیب GO-SiO2 به صورت افزودنی و ایجاد لایه مضاعف است. برای این منظور در مرحله اول پوشش‏ های کامپوزیتی پایه اکسید تیتانیم توسط فرایند اکسیداسیون الکترولیتی پلاسمایی با افزودن مقادیر 0 تا g.L-1 5 نانوذرات GO-SiO2 ایجاد شدند. در مرحله دوم  لایه مضاعف GO-SiO2 روی پوشش‏ های اکسیدی ساده توسط فرایند سل ژل پوشش‏ دهی شد. مشخصه یابی نمونه‏ ها توسط میکروسکوپ الکترونی روبشی گسیل میدانی (FESEM)، پراش پرتو ایکس (XRD)، طیف سنجی‏ های تبدیل فوریه فروسرخ (FTIR) و رامان (RAMAN) انجام شد. رفتار خوردگی پوشش ­ها توسط آزمون­ های طیف سنجی امپدانس الکتروشیمیایی (EIS) و پلاریزاسیون پتانسیودینامیک در محلول‏ های شبیه سازی شده بدن (SBF) در دو حالت نرمال و التهابی حین d 14 غوطه­ وری ارزیابی شد. زیست سازگاری نمونه ­ها توسط آزمون‏ های چسبندگی سلولی، سمیت سلولی و ارزیابی بقا به کمک سلول­ های استخوانی MC3T3-E1 بررسی شد. نتایج EIS در محلول SBF نرمال مشخص ساخت که پوشش ‏های­ اکسیدی ساده­، کامپوزیت حاوی g.L-1 5 افزودنی GO-SiO2 و دارای لایه مضاعف به ترتیب مدول امپدانس 361/94، 159/72 و kΩ.cm2 1294/50 را پس از h 8 غوطه ­وری نشان دادند که تا d 14 غوطه­وری به طور پیوسته کاهش یافتند. نتایج EIS در محلول SBF التهابی نشان داد که پوشش ‏های­ اکسیدی ساده و کامپوزیت حاوی g.L-1 5 افزودنی GO-SiO2 پس از d 7 غوطه­ وری دچار افت شدید مدول امپدانس می­ شوند در حالی که پوشش­ اکسیدی دارای لایه مضاعف از پایداری بهتری برخوردار است. نتایج آزمون پلاریزاسیون پتانسیودینامیک در محلول SBF التهابی مشخص ساخت که پوشش ‏های­ اکسیدی ساده و کامپوزیت حاوی g.L-1 5 افزودنی GO-SiO2 دچار شکست لایه اکسیدی می­ شوند در حالی که پوشش­ اکسیدی دارای لایه مضاعف از محدوده روئین پایدارتری برخوردار است. آزمون غوطه­ وری در محلول SBF نرمال مشخص ساخت که تمامی پوشش ­ها زیست فعال بوده و توانایی تشکیل رسوبات کلسیم فسفات را دارند. همچنین سازگاری سلولی بسیار خوبی برای نمونه دارای لایه مضاعف با میزان تکثیر سلولی عالی و چسبندگی با مورفولوژی گسترده مشاهده شد.